此法生产钨制品工艺是将WF6与H2的混合物流过被加热的基材的表面，使钨沉积在基材上。对铜、黄铜、钢、钼做的基材，在沉积完成后可用酸溶办法除去，对钢、陶瓷基材达到要求后也可用机加工办法除去。也可在钨或钼棒为基材上进行沉积，然后对沉积了钨的棒进行压制、锻打、轧制或拉拔加工以生产一真g>半成品。
此法也可用于在其他基体材料，回收锌粉大部分情况为在塑料上镀上钨涂层。此法生产钨制品的装置分别示于图9-50、图9-51。以下各例代表了此法生产钨制品的部分领域。
(1)美国Ultramet．公司采用氟化钨氢还原的方法制造了一个用于熔融反应堆燃料容器的特大型无缝钨坩埚。它的直径330mm，高553mm，壁厚1.52-2. 03mm，重达20kg，这是旋压、引伸工艺难以加工出来的。型芯金属用钼，将其放人图9-51的CⅥ）设备中进行钨的沉积。型芯被加热到700℃，并不停地旋转以制得轴对称的坩埚。用酸液腐蚀掉型芯后，便得到钨坩埚。化学气相沉积是当前能够制造这样大尺寸致密制件的唯一方法。
(2)目前已用CVD法在钼或石墨基体上沉积钨或钨铼，以生产X射线旋转及固定钨靶以及火箭喷嘴等复杂产品。
(3)用这个方法可在加热的钨基体上，例如钨丝上沉积钨，由此获得适于塑性加工的钨坯。用这个方法还可制取高纯度高强度（例如极限抗拉强度UTS -21090.--.28120MPa)的钨晶须。